经济版图

摘要： 过去的20年中,互联网一直在中国的数字经济版图当中占据中心位。但从任何一个角度看,现在的中国数字经济都站在一个历史的拐点上。究竟在这个拐点之后,数字经济是会迎来新一轮的强势发展,还是暂时陷入一个低谷呢?这恐怕还要取决于技术、商业、政策,以及国际环境等多方面因素共同作用的结果。但有一点可以肯定的是,拐点之后的中国数字经济一定会是和拐点之前完全不同的样子。

摘要： 3148亿元,全省第三个经济总量突破三千亿元大关的市州;8.9%,增速居全省第1位。这是2021年宜宾交出的发展答卷。2021年,宜宾地区生产总值突破三千亿元,经济总量占全省比重比2020年提高了0.1个百分点,在四川经济版图中的重要地位进一步凸显。GDP比上年增长8.9%,分别比全国、全省高0.8、0.7个百分点,拉动全省经济增长0.5个百分点,两年平均增长6.7%。如此亮眼的发展成绩,宜宾是如何做到的?

摘要： 2月6日,“东数西算”正式启动。国家规划的8个“算力枢纽节点”,有6个在西部。从蒙古高原到黄土高原,从天府之国到云贵高原,“东数西算”正在改变数字时代西部的经济版图。“东数西算”通过算力资源的有效配置,不仅能筑牢经济健康发展的数字底座,更有助于弥合东西部数字鸿沟,推动西部发展得更快、更好。

摘要： 这片5.6万平方公里的土地,在全国经济区域版图中举足轻重。粤港澳大湾区既是新时代中国改革开放的一项国家战略,也是中国在世界区域经济发展领域首开先河的探索。在这片5.6万平方公里的土地上,有8000多万人口,2021年创造经济总量超过12.6万亿元,在全国经济区域版图中可谓举足轻重。携手大湾区,齐心开新路曾经“蕉林绿野,农庄寥落”的珠海横琴岛,如今已是大道纵横,高楼林立;曾经荒野滩涂、一无所有的深圳前海,如今已是交通往来,满眼繁华。大湾区日新月异的建设,为粤港澳三地带来重大发展机遇。

摘要： 在疫情经济的催化下,游戏进一步跃升为欧洲最热门的文化创意活动之一,也成为欧洲经济版图中举足轻重的一部分。电子游戏产业的重要性,在欧盟获得了前所未有的重视。11月10日,一项关于电子游戏的决议(以下简称“欧盟游戏法案”)在欧洲议会上以压倒性优势得以通过:呼吁欧盟委员会和理事会对欧洲游戏行业通过国家和欧盟的援助来支持电子游戏产业的发展,并将制定电子游戏产业发展的长期计划,以留住电子游戏产业人才。

摘要： 在成渝地区双城经济圈建设中,四川首个省级新区——宜宾三江新区,以大江之势,一路向前,敢为人先,在四川经济版图上释放出“三江力量”。1月5日,在宜宾三江新区内,四川时代动力电池三期、四期,三江鲲鹏等16个重大项目集中开工,总投资达278亿元;1月7日,宜宾三江新区成为首批“成渝地区双城经济圈产业合作示范园区”;1月26日,成都宜宾两市合作的首个落地项目极米科技宜宾智能光电产业园在三江新区开工……新年伊始,宜宾三江新区建设一如既往在高质量发展的新天地驰骋,全力打造成渝地区经济副中心的核心引擎,用“深圳精神、三江速度”开好局、起好步。

摘要： 2020年31个省份GDP数据的发布,使“南北差异”问题成为热议话题。“北方衰落”“城市经济版图剧变”“东西差距正让位于南北差距”“南北差距到了最严峻时刻”等讨论吸引着大家的目光。历史自然因素、文化观念意识、改革开放推进的区域与时序、市场发育的差别、融入全球化以及全球制造业分工体系的程度。

摘要： 2020年我国GDP突破百万亿,相比新中国成立初期的679.1亿增长了近1500倍。里程碑式的成绩,是成就也是起点。回顾过去71年发展历程,我国经济总量从百亿到万亿经历了37年,从十万亿到五十万亿用了12年,翻番到百万亿则只用了8年。这些时间数字表现出一种突破性的发展速度。31省中哪些省市是推动我国经济逆风航行的强势动力?谁又是搅动中国区域经济格局的上升力量?在全国31省71年GDP排名变化中,有答案。

摘要： 31个省份一季度GDP增速均为两位数,湖北以58.3%的增速排第一;8个省份GDP增速跑赢了全国GDP增速;两年平均增速方面,西藏排名第一。广东一季度GDP总量超过2.7万亿元,排名第一。安徽一季度GDP赶超上海,挤进全国十强。目前,31个省份2021年一季度GDP数据全部出炉。看看地方经济版图有哪些特点和新变化。31个省份一季度GDP增速均为两位数,湖北以58.3%的增速排第一;8个省份GDP增速跑赢了全国GDP增速;两年平均增速方面,西藏排名第一。

摘要： 近年来,有“新一线城市”排头兵之称的成都,在中国经济版图中的发展态势表现亮眼:全国医药百强企业,成都独占三席;全国21家世界灯塔工厂,成都揽收2家;全球一半的IPad和笔记本电脑CPU“成都造”。成都还率先成为全国电子信息产业基地、汽车生产基地和飞机研制基地。

摘要： 一种IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法，所述IP核检测版图，包括：IP核版图，所述IP核版图中位于中间位置的版图被去除，只保留IP核版图中位于边缘区域的版图，使得所述IP核检测版图的形状为环形，且所述IP核检测版图内圈边缘到IP核检测版图外圈边缘的间距范围大于或等于当前不同电路结构之间的最大间距设计规则。利用所述IP核检测版图和周围电路版图相结合进行设计规则检测，如果发现IP核检测版图和周围电路版图有冲突，可以立即对周围电路版图进行修改，节省了片上系统的设计时间，且IP核用户只能获得边缘区域的版图，无法通过所述IP核检测版图获得整个IP核的电路或版图，依然利于保护IP核的知识产权。

摘要： 本申请实施例公开了一种遮光带版图绘制方法、光罩版图绘制方法及光罩版图。遮光带版图绘制方法包括：获取遮光带版图的绘制配置信息，绘制配置信息包括绘制原始版图标识、遮光带版图的绘制范围的尺寸信息；调用版图数据库，版图数据库包括至少一绘制原始版图和与绘制原始版图对应的绘制原始版图标识；根据绘制原始版图标识在版图数据库中确定绘制原始版图；根据绘制原始版图设定第一空心阵列组；根据第一空心阵列组、绘制范围的尺寸信息确定绘制范围；根据第一空心阵列组和绘制范围生成遮光带版图。本申请实施例可以自动化快速绘制遮光带版图，减小了现有遮光带版图绘制中的繁琐步骤。

摘要： 本发明实施例公开了一种双面版图设计方法，属于薄膜电路加工技术领域。该方法包括：对需要排版的设计图形进行组合，4个外形相同的设计图形构成一个单元，一个单元中的4个设计图形的图形区关于横轴和纵轴对称；将设计图形分别放置于一个单元的四个图形区，使其与图形区外形重合，一个单元中任意两个设计图形布置在正面版图，其余两个设计图形布置在反面版图，正面设计图形与反面设计图形的投影关于横轴和纵轴对称，反面有效图形区与正面有效图形区不重叠；将多个单元进行阵列排版，完成整块版图的正反面图形设计。采用上述实施例，减少了划切切割道的数量，减少了外形切割的时间，提高了外形切割的效率，提高了尖角位置的外形质量。

摘要： 一种IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法，所述IP核检测版图，包括：IP核版图，所述IP核版图中位于中间位置的版图被去除，只保留IP核版图中位于边缘区域的版图，使得所述IP核检测版图的形状为环形，且所述IP核检测版图内圈边缘到IP核检测版图外圈边缘的间距范围大于或等于当前不同电路结构之间的最大间距设计规则。利用所述IP核检测版图和周围电路版图相结合进行设计规则检测，如果发现IP核检测版图和周围电路版图有冲突，可以立即对周围电路版图进行修改，节省了片上系统的设计时间，且IP核用户只能获得边缘区域的版图，无法通过所述IP核检测版图获得整个IP核的电路或版图，依然利于保护IP核的知识产权。

摘要： 本发明提供了一种获取模块在版图中的相对位置信息，根据所述模块的相对位置信息和所述模块的尺寸计算所述模块的布局位置信息，通过集成电路设计工具调用所述模块的布局位置信息和所述模块的地址信息实现集成电路版图布局，无需人工手动布局，提高了布局效率和准确性。本发明还提供了一种集成电路版图布局系统。

摘要： 一种版图对比中验证单位版图的排序方法，包括以下步骤：1）制定配置文件；2）定义测试文件；3）读取测试文件，生成重叠的测试版图并确定版图编辑工具的画布尺寸；4）确定测试单元个数尺寸和标准单元行数和列数；5）比较总版图尺寸是否大于版图编辑工具的1/4大小画布尺寸；6）将画图中心重叠的测试单元版图移动到最小单元阵列中；7）用户查看测试结果日志，对版图进行交互验证。本发明可以根据不同器件版图的形状，数量进行验证单位版图和版图行列数的设定，使最终版图的画布利用率大大提高，且提高了用户对特定版图的查找效率。

摘要： 本公开提供一种版图处理方法、版图处理系统及电子设备，涉及半导体技术领域，用于解决版图可扩展性弱的技术问题，该版图处理方法包括：根据若干个版图参数生成标准单元版图，标准单元版图包括第一反相器版图，用于形成一个第一反相器，第一反相器版图包括一个第一NMOS管版图和一个第一PMOS管版图，版图参数包括第一NMOS管版图和第一PMOS管版图的栅极图案之间的距离；根据若干个电路参数和标准单元版图，生成结果版图；输出结果版图的数据库格式文件。调整版图参数以调整第一NMOS管版图和第一PMOS管版图的栅极图案彼此靠近的一端的长度，调整电路参数以调整标准单元版图所形成的电路结构，提高版图的可扩展性。

摘要： 本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及尤其涉及一种适用于双重光刻技术的版图拆分方法、适用于双重光刻技术的版图拆分装置及电子设备，本方法包括如下步骤：提供包括多个掩模图形的初始版图；基于第一拆分规则将多个掩模图形拆分为有冲突图形和无冲突图形；基于第二拆分规则将有冲突图形分为第一部分掩模图形和第二部分掩模图形；基于第三拆分规则将无冲突图形分为第一尺寸掩模图形和第二尺寸掩模图形；分别将第一尺寸掩模图形和第二尺寸掩模图形中的其中一部分与第一部分掩模图形合并以获得第一版图、另一部分与第二部分掩模图形合并以获得第二版图，本发明提供的方案具有拆分速度快，拆分之后的两个版图形成的掩模曝光成像分辨率高的优点。

摘要： 本公开实施例公开了一种延迟电路单元的版图、延迟电路的版图和半导体存储器，该延迟电路单元的版图包括多个版图单元，版图单元用于形成与非门电路，且版图单元呈阵列排布；其中，在阵列的第一行中，顺序排布有若干个符合第一布局方式的版图单元；在阵列的第二行中，顺序排布有若干个符合第二布局方式的版图单元；其中，第一布局方式与第二布局方式不同，而且第一布局方式和第二布局方式使得第一行与第二行呈中心对称结构。这样，不仅有利于实现不同相位信号之间的延时一致性，而且延迟电路单元的版图整体排布紧促，还能够节省版图面积。

摘要： 本申请涉及集成电路芯片设计领域，提供一种ROMKEY单元的版图结构、芯片版图布局方法及芯片。所述ROMKEY单元的版图结构，包括第一逻辑版图区和第二逻辑版图区，第一逻辑版图区和第二逻辑版图区设置有各自的逻辑输出端，第一逻辑版图区的逻辑输出端和第二逻辑版图区的逻辑输出端的上方均覆盖金属带；第一逻辑版图区的逻辑输出端通过连接孔与金属带连接，以实现第一逻辑功能；或者，第二逻辑版图区的逻辑输出端通过连接孔与金属带连接，以实现第二逻辑功能。本申请结构简单灵活、适配性强，可适用于各类工艺制程领域；在对芯片改版设计时如需更新ROMKEY密钥或ROMCODE，仅修改一层光罩掩模版即可实现不同的逻辑输出。