磁控溅射工艺对Mo膜性能的影响

汤清琼; 刘沅东; 张宁; 余新平; 张至树

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磁控溅射工艺对Mo膜性能的影响

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采用中频磁控溅射方法制备用于CIGS薄膜太阳能电池背电极的Mo膜。研究了靶面磁场强度、溅射气压、溅射电流等工艺参数对Mo膜沉积速率、电阻率、形貌及应力的影响。研究表明:随着靶面磁场强度的增强,Mo膜电阻率和沉积速率均下降;使用较高的溅射电流可以获得较高的沉积速率和较低的电阻率,使用较低的溅射气压可以获得较低的电阻率和较高的沉积速率。在本试验条件下制备的Mo膜基本上呈现拉应力状态并且随溅射气压的升高而增大。

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来源
《材料保护》 |2014年第s1期|134-136|共3页
作者
汤清琼; 刘沅东; 张宁; 余新平; 张至树;
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作者单位

北京四方继保自动化股份有限公司;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
磁控溅射; Mo膜; 应力; 电阻率;

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