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摘 要
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第一章 文献综述
1.1镁合金的特点及应用
1.1.1镁及镁合金
1.1.2镁合金的应用
1.2镁合金的耐蚀性
1.3镁合金的表面改性
1.3.1化学转化膜
1.3.2电镀化学镀
1.3.3阳极氧化
1.3.4微弧氧化
1.3.5离子注入
1.3.6气相沉积
1.4磁控溅射技术
1.4.1磁控溅射原理
1.4.2磁控溅射技术的特点
1.5镁合金表面常见的磁控溅射膜及其性能
1.6磁控溅射氮化铝膜的相关研究
1.6.1溅射功率
1.6.2温度
1.6.3气压
1.6.4氮气浓度
1.7镁合金磁控溅射氮化铝研究的不足之处及本课题研究内容
第二章 实验方法
2.1实验材料
2.2.1主要实验材料
2.1.2辅助实验材料
2.2实验设备
2.2.1磁控溅射设备
2.2.2其他设备
2.3实验方法
2.3.1镁合金基体表面预处理
2.3.2镁合金磁控溅射氮化铝的工艺调控
2.4磁控溅射镀膜过程
2.5氮化铝膜层性能检测分析
2.5.1硬度检测
2.5.2电化学腐蚀
2.5.3形貌观察及截面分析
2.5.4膜厚检测
2.5.5粗糙度检测
2.5.6结合力检测
第三章 氮化铝膜磁控溅射工艺研究
3.1正交试验设计
3.2工艺参数对性能指标的影响
3.2.1影响膜层硬度的工艺参数分析
3.2.2影响膜层耐蚀性能的工艺参数分析
3.2.3影响膜层与基底结合力的工艺参数分析
3.2.4影响膜层厚度的工艺参数分析
3.2.5影响膜层表面粗糙度的工艺参数分析
3.2.6各指标关联性分析
3.3正交试验结果综合分析
3.4本章小结
第四章 磁控溅射工艺对膜层性能的影响分析
4.1实验方案
4.2膜层硬度单因素实验结果与分析
4.2.1工艺参数对膜层硬度的影响
4.2.2工艺参数对氮化铝膜层形貌、膜厚和组织的影响
4.2.3膜层硬度变化原因分析
4.3膜层耐蚀性单因素实验结果与分析
4.3.1工艺参数对膜层耐蚀性的影响
4.3.2工艺参数对膜层腐蚀形貌的影响
4.3.3工艺参数对膜层粗糙度的影响
4.3.4膜层耐蚀性变化原因分析
4.4本章小结
结论
参考文献
致谢
