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Propiedades eléctricas de nano-multicapas de Cr/CrN producidas por la técnica de sputtering con magnétrón desbalanceado / Electrical properties of Cr/CrN nano-multilayers produced by the unbalanced magnetron sputtering technique

机译:采用非平衡磁控溅射技术制备Cr / CrN纳米多层膜的非均衡磁/电性能溅射技术制备Cr-CrN纳米多层膜的电学性能

摘要

Películas de nitruro de cromo (CrN) se han aplicado como recubrimientos protectores contra el desgaste y la corrosión debido a sus excelentes propiedades mecánicas y alta resistencia a la corrosión, y en el campo electrónico debido a su baja resistividad. Sin embargo, se ha encontrado que las multicapas que combinan películas metal/cerámico podrían mejorar las propiedades en comparación a sus contrapartes en monocapa debido al aumento e interacción entre interfaces. En este trabajo se produjeron nano-multicapas de Cr/CrN a través de la técnica de sputtering con magnetrón desbalanceado con tres grados de desbalanceo diferentes para estudiar la influencia de este parámetro en las propiedades eléctricas. Se crecieron multicapas con un espesor total de aproximadamente 1 μm y un período de bicapa (Λ) de 200 nm, 100 nm y 20 nm. Las multicapas se produjeron a temperatura ambiente sobre acero H13 y silicio (100) y se estudió su microestructura y las propiedades eléctricas en función del campo magnético. La formación de fases se caracterizó a través de Difracción de Rayos X y los resultados muestran las orientaciones (111) y (200) para todas las multicapas. Se obtuvieron imágenes de la sección transversal a través de Microscopía Electrónica de Barrido y los resultados muestran la formación de una estructura en multicapas./ Abstract. Chromium nitride (CrN) films have been applied to several steels as protective coatings against wear and corrosion due to their excellent mechanical properties and corrosion resistance, and in the electronic field these films are commonly used due to their low electrical resistivity. However, it has been found that multilayers combining metal/ceramic films could enhance mechanical and electrical properties compared with their monolayer counterparts, due to the higher amount and interaction between interfaces. In this work, Cr/CrN nano-multilayers have been produced through the unbalanced magnetron sputtering technique with three different degrees of unbalance, in order to study the influence of this parameter on electrical properties. Cr/CrN multilayers with approximately 1 μm of total thickness and a bilayer period (Λ) of 200 nm, 100 nm, and 20 nm were produced at room temperature on H13 steel and silicon (100); and their microstructure and electrical properties as a function of the magnetic field were evaluated. The phase formation was characterized through x-ray diffraction, and results presented (111) and (200) preferred orientations for all the multilayers. Cross section images were obtained through scanning electron microscopy and a multilayer structure can be clearly seen.
机译:氮化铬(CrN)膜由于其优异的机械性能和高耐腐蚀性而已被用作抗磨损和腐蚀的防护涂层,并且由于其低电阻率而被用于电子领域。然而,已经发现结合金属/陶瓷膜的多层由于其增加的界面相互作用而与它们的单层对应物相比可以改善性能。在这项工作中,通过使用具有三种不同不平衡度的不平衡磁控管的溅射技术生产了Cr / CrN纳米多层膜,以研究该参数对电性能的影响。多层生长的总厚度约为1 µm,双层周期(Λ)为200nm,100nm和20nm。在室温下在H13钢和硅(100)上生产多层膜,并研究它们的微观结构和电性能与磁场的关系。通过X射线衍射表征相形成,结果显示所有多层的取向(111)和(200)。通过扫描电子显微镜获得横截面图像,结果表明形成了多层结构。氮化铬(CrN)膜由于其优异的机械性能和耐腐蚀性而已被应用于几种钢作为抗磨损和腐蚀的防护涂层,并且由于其低电阻率,这些膜在电子领域得到了普遍使用。然而,已经发现,与金属/陶瓷膜组合的多层相比其单层对应物,由于界面之间的量和相互作用更高,因此可以提高机械和电气性能。在这项工作中,通过不平衡磁控溅射技术制备了具有三种不同程度不平衡度的Cr / CrN纳米多层膜,以研究该参数对电性能的影响。在室温下,在H13钢和硅(100)上生产出总厚度约为1μm,双层周期(Λ)为200 nm,100 nm和20 nm的Cr / CrN多层膜;并评估了它们的微结构和电性能随磁场的变化。通过X射线衍射表征相形成,并且结果给出了所有多层的(111)和(200)优选取向。通过扫描电子显微镜获得横截面图像,并且可以清楚地看到多层结构。

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