RLVIP技术制备Ge1-xCx薄膜的X射线光电子能谱

著录项

• 来源
  《光学精密工程》 |2008年第4期|565-569|共5页
• 作者

  王彤彤; 高劲松; 宋琦; 王笑夷; 陈红; 郑宣鸣; 申振峰;

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• 作者单位

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,研究生院,北京,100039;

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,光学技术研究中心,吉林,长春,130033;

  中国科学院,研究生院,北京,100039;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 能谱分析;
• 关键词

  Ge1-xCx薄膜; 低压反应离子镀; X射线光电子能谱; 离子辅助沉积;