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Pseudo-Rhombus-Shaped Subwavelength Crossed Gratings of GaAs for Broadband Antireflection

         

摘要

结合的 Holographic 平版印刷术到暴露的光致抗蚀剂的非线性的反应被采用制作多孔的光致抗蚀剂(PR ) 面具。常规点 PR 面具也被产生,并且两个模式被最佳的干燥蚀刻过程变成内在的 GaAs 底层获得穿过的栅栏(SWCG ) 组织模仿蛾眼睛的逐渐变细的 subwavelength。在实验和模拟的比较,源于多孔的面具的仔细包装的 pseudo-rhombus-shaped GaAs SWCG 超过来自点面具的圆锥形的对应物,并且完成一个报导最低平均数光谱 1.1% 的反射。[从作者抽象]

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