4-Mask工艺Cu腐蚀分析及改善研究

著录项

• 来源
  《液晶与显示》 |2019年第2期|125-129|共5页
• 作者

  白金超; 李小龙; 韩皓; 张向蒙; 左天宇; 吴祖谋; 丁向前; 宋勇志; 陈维涛;

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• 作者单位

  北京京东方显示技术有限公司;

  北京 100176;

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  北京 100176;

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  北京京东方显示技术有限公司;

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  北京 100176;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 液晶显示器件;
• 关键词

  4-Mask; 铜腐蚀; 线不良;